Химическое осаждение из паровой фазы
-
Основы химического осаждения из паровой фазы (CVD)
- CVD — это метод осаждения материалов из газовой фазы, который включает в себя использование плазмы для создания условий для роста.
- Этот метод позволяет создавать материалы с контролируемыми свойствами, такими как толщина, размер и чистота.
-
История и развитие CVD
- CVD был разработан в 1950-х годах, но его практическое применение началось в 1960-х годах.
- В 1970-х годах были разработаны методы для контроля роста и улучшения качества получаемых материалов.
- В 1980-х годах CVD стал широко использоваться в производстве полупроводников и других областях.
-
Применение CVD
- CVD используется для создания различных материалов, включая полупроводники, металлы, диэлектрики и наноструктуры.
- Он применяется в производстве графена, алмазов и других материалов с уникальными свойствами.
-
Физические условия и методы анализа
- Важными параметрами CVD являются давление, температура, газ-носитель и материал камеры.
- Для исследования и характеристики образцов используются различные методы анализа, включая рамановскую спектроскопию и просвечивающую электронную микроскопию.
-
Графеновые нановолокна и алмазы
- Графен обладает уникальными электронными и тепловыми свойствами, но не подходит для использования в транзисторах.
- CVD позволяет выращивать алмазы с контролируемыми свойствами, которые могут использоваться в различных приложениях, включая электронику и оптику.
-
Халькогениды и другие материалы
- Теллурид ртути-кадмия используется для обнаружения инфракрасного излучения и может быть получен с помощью CVD.
- CVD также применяется для создания других материалов с уникальными свойствами, такими как поликристаллические алмазы и халькогениды.
Полный текст статьи: