Фотолитография
-
Основы фотолитографии
- Фотолитография — это процесс создания изображений на пластинах с использованием света и химических реакций.
- Процесс включает в себя создание маски с рисунком, который затем проецируется на пластину.
- Маски создаются с использованием компьютерных файлов данных, которые преобразуются в полигоны и наносятся на подложку из плавленого кварца.
-
Разрешение в проекционных системах
- Минимальные размеры элементов, которые могут быть напечатаны проекционной системой, ограничены длиной волны света и способностью системы фокусировать луч.
- Современные инструменты используют глубокое ультрафиолетовое излучение для уменьшения минимального размера элемента до 50 нм.
- Глубина фокусировки также является важным фактором, ограничивающим толщину фоторезиста и глубину рельефа на пластине.
-
Стохастические эффекты и источники света
- Качество изображения зависит от количества фотонов, что влияет на использование экстремальной ультрафиолетовой литографии.
- Исторически использовались ртутные лампы, но эксимерные лазеры позволили значительно улучшить разрешение и производительность.
- Эксимерные лазеры KrF и ArF являются основными источниками света в современной литографии.
-
Иммерсионная литография
- Иммерсионная литография использует сверхчистую деионизированную воду для увеличения числовой апертуры оптики.
- Это позволяет создавать изображения с размерами менее 50 нм и эффективно использовать оптику с высоким числом апертуры.
-
Высокоиндексная иммерсионная литография
- Это новейшее усовершенствование 193-нм литографии, которое позволяет создавать изображения с еще более высоким разрешением.
- Пересказана только часть статьи. Для продолжения перейдите к чтению оригинала.
Полный текст статьи: