Фоторезист
-
Основы фоторезиста
- Фоторезист — это материал, который затвердевает под воздействием света или электронного излучения.
- Он используется для создания резистивных изображений на различных подложках.
-
История и развитие
- Фоторезисты были изобретены в 1920-х годах и использовались для создания резистивных масок в производстве полупроводников.
- В 1930-х годах были разработаны фоторезисты для использования в микроэлектронике.
- В 1950-х годах началось использование фоторезистов в микролитографии.
-
Структура и свойства
- Фоторезисты состоят из фотоинициатора, фотосенсибилизатора и фоторезиста.
- Фотоинициатор активируется светом или электронным излучением, вызывая фотохимическую реакцию.
- Фотосенсибилизатор поглощает свет и передает энергию фотоинициатору.
- Фоторезист затвердевает под воздействием света, образуя резистивное изображение.
-
Типы фоторезистов
- Фоторезисты делятся на позитивные и негативные в зависимости от их реакции на свет.
- Позитивные фоторезисты затвердевают при облучении светом, а негативные — при облучении электронным излучением.
- Существуют различные типы фоторезистов, включая DNQ-Novolac, SU-8, OSTE и HSQ, каждый со своими уникальными свойствами и применением.
-
Применение фоторезиста
- Микроконтактная печать использует фоторезист для создания двумерных рисунков на твердых подложках.
- Фотолитография используется для точного воспроизведения сложных электронных систем на печатных платах.
- Микроэлектроника применяет фоторезисты для создания микропаттернов на кремниевых пластинах и интегральных схемах.
-
Рекомендации
- В статье приведены рекомендации по использованию фоторезистов в различных технологических процессах.
Полный текст статьи: