Оглавление
Нанесение напылением
-
Основы вакуумного напыления
- Вакуумное напыление – процесс нанесения тонких пленок на подложку с использованием плазмы.
- Плазма создается в вакуумной камере с помощью источника ионов или плазмы.
- Напыление может быть импульсным или непрерывным, с различными методами для получения пленок.
-
Методы напыления
- Магнетронное распыление – наиболее распространенный метод, использующий магнитное поле для удержания плазмы.
- Импульсное лазерное напыление – вариант с использованием лазерного луча для исследования роли распыленных ионов.
- Ионно-лучевое распыление – метод без магнитного поля, позволяющий распылять как проводящие, так и изолирующие мишени.
- Реактивное распыление – метод с химической реакцией для получения оксидных и нитридных пленок.
- Ионно-ассистированное осаждение – метод с использованием вторичного ионного пучка для нанесения покрытий.
-
Структура и морфология пленок
- Модель структурной зоны описывает морфологию тонких пленок при напылении.
- Давление в камере и длина свободного пробега определяют распределение энергии атомов при напылении.
- Соотношение потоков ионов и атомов влияет на микроструктуру и морфологию пленок.
-
Применение и дальнейшее чтение
- Вакуумное напыление используется в различных областях, включая электронику и медицину.
- Для более глубокого изучения технологии вакуумного напыления рекомендуется книга Д. Маттокса.
Полный текст статьи: