Плазменное травление

Оглавление1 Плазменное травление1.1 Основы плазменного травления1.2 Удержание плазмы1.3 Применение плазменного травления1.4 Интегральные схемы и печатные платы1.5 Рекомендации2 Плазменное травление — […]

Плазменное травление

  • Основы плазменного травления

    • Плазменное травление использует высокочастотное электрическое поле для удаления материала с поверхности. 
    • Плазма создается из технологического газа, обычно кислорода или фторсодержащих газов. 
    • Вакуумные насосы используются для откачки воздуха из технологической камеры. 
  • Удержание плазмы

    • Плазменные травители часто оснащены системами удержания плазмы для обеспечения стабильного травления. 
    • Дебаевская оболочка используется для ограничения потока плазмы, сохраняя при этом незаряженные частицы. 
  • Применение плазменного травления

    • Плазменное травление используется для обработки полупроводников в производстве электроники. 
    • Оно позволяет создавать углубления на поверхности кремния для микроэлектромеханических систем. 
    • Водородно-плазменное травление эффективно удаляет оксиды с поверхности полупроводников. 
  • Интегральные схемы и печатные платы

    • Плазма используется для создания пленки диоксида кремния на кремниевых пластинах и удаления диоксида кремния с печатных плат. 
  • Рекомендации

    • Ссылки на внешние источники и библиографическое описание доступны в статье. 

Полный текст статьи:

Плазменное травление — Википедия

Оставьте комментарий

Прокрутить вверх