Технологии повышения разрешающей способности

• Технологии повышения разрешения в литографии

  • Используются для улучшения качества фотошаблонов в производстве интегральных схем. 
  • Позволяют создавать объекты с разрешением значительно выше, чем возможно с использованием DUV. 

• Процесс фотолитографии

  • Интегральные схемы создаются путем многоступенчатого процесса фотолитографии. 
  • Фотошаблоны изготавливаются из тонких линий хрома на кварцевом стекле. 
  • Маска накладывается на пластину и подвергается воздействию УФ-излучения. 

• Дифракция и ее влияние

  • Дифракция приводит к расфокусировке света, что требует использования систем выравнивания проекций. 
  • Закон Мура достиг предела возможностей проекционных систем, что привело к поиску новых решений. 

• Современные методы повышения разрешения

  • Используют различные комбинации дифракции и дополнительных элементов для компенсации дифракции. 
  • Применяются материалы с фазовым сдвигом и множественное нанесение рисунка. 

• Применение методов повышения разрешения

  • После проектирования ИС и сертификации полигонов, данные отправляются в мастерскую для создания масок. 
  • Изменения в макете ИС необходимы для соответствия требованиям производственного оборудования. 

• Коррекция искажений и повышение технологичности

  • Искажения в процессе производства компенсируются оптической коррекцией приближения. 
  • Улучшение технологичности включает в себя повышение разрешающей способности процесса. 

• Классификация макетов и предотвращение несоответствий

  • Существуют макеты, которые не могут быть улучшены или вызывают проблемы при печати. 
  • Методы повышения разрешения используются для компенсации ограничений, связанных с уменьшением размеров элементов. 

• Последующие этапы процесса EDA

  • После методов повышения разрешения следуют подготовка данных о масках и другие этапы проектирования.