Пластина (электроника)
-
Эволюция кремниевой пластины
- Кремниевые пластины являются ключевым компонентом в производстве полупроводников.
- Переход на большие пластины диаметром 450 мм был предложен для снижения стоимости производства.
- Литографические компании столкнулись с трудностями в снижении затрат на обработку пластин.
-
История и развитие
- В 1950-х годах были разработаны первые кремниевые пластины для транзисторов.
- В 1960-х годах началось массовое производство кремниевых пластин.
- В 1970-х годах произошел переход на более крупные пластины для увеличения производительности.
- В 1980-х годах начался переход на пластины диаметром 300 мм для снижения затрат.
-
Проблемы и решения
- Переход на 450 мм столкнулся с техническими и экономическими трудностями.
- Литографы столкнулись с необходимостью значительных инвестиций для разработки оборудования.
- Государственно-частное партнерство Global 450mm Consortium было создано для разработки инфраструктуры для производства пластин 450 мм.
-
Технические аспекты
- Увеличение диаметра пластин до 450 мм привело к увеличению веса и времени обработки.
- Разработка пластин 450 мм требует значительных инженерных и временных затрат.
-
Аналитические оценки
- Для минимизации затрат на матрицы производители стремятся увеличить количество матриц на пластину.
- Существуют аналитические формулы для оценки количества матриц, которые можно изготовить из одной пластины.
-
Применение различных материалов
- Помимо кремния, используются и другие полупроводниковые материалы, такие как GaAs, GaN и SiC.
-
Рекомендации и ссылки
- В статье представлены инфографика и ссылки для дальнейшего изучения темы.
Полный текст статьи: